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Oana COJOCARU-MIREDIN - Vendredi 20 Novembre 2009

Précipitation du Bore dans le Silicium implanté et redistribution du Bore et Platine lors de l’interdiffusion réactive dans le film mince Nickel-Silicium

par LABGPM - publié le

Vendredi 20 Novembre 2009

ERMEL : D. Blavette - D. Mangelinck (IM2NP - Marseille)